 | • レポートコード：MRC6TCOQ31440 • 出版社/出版日：QYResearch / 2026年10月 • レポート形態：英文、PDF、167ページ • 納品方法：Eメール（納期：3営業日） • 産業分類：機械＆装置 |
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レポート概要
世界的なEUVリソグラフィ計測および検査装置市場は、重要な製品セグメントと多様なエンドユースアプリケーションに牽引され、2025年の48億6000万米ドルから2032年までに98億9400万米ドルへ、年平均成長率（CAGR）10.5%（2026年～2032年）で成長すると予測されています。一方、進化する米国の関税政策は、貿易コストの変動性とサプライチェーンの不確実性をもたらしています。
EUVリソグラフィ計測および検査装置とは、13.5nmの極端紫外線リソグラフィ周辺で使用される特殊なプロセス制御システムを指します。これらは、EUVマスクブランク、パターン化EUVレチクル、EUVペリクル、リソグラフィ後およびエッチング後のウェーハパターン、ならびに重要なリソグラフィプロセスウィンドウの検査、測定、レビュー、校正、および制御を行うものです。これらのシステムは、プリント可能欠陥、クリティカルディメンション（CD）、オーバーレイエラー、パターン配置、反射率、位相、膜パラメータ、材料特性、三次元プロファイル、および粒子汚染を測定・分析します。主要な技術経路には、アクチニックEUVまたは軟X線検査、電子ビームイメージング、CD-SEM、電子ビーム検査およびレビュー、光オーバーレイ計測、光クリティカルディメンション散乱計測（OCD）、エリプソメトリ、原子間力顕微鏡（AFM）、オフラインTEM/STEMレビュー、自動欠陥分類、およびプロセス制御分析が含まれます。この装置は主に、EUVマスク製造、ウェーハファブへのレチクル受入品質保証、スキャナおよびプロセスレシピ設定、現像後およびエッチング後のCD制御、オーバーレイ制御、確率的欠陥監視、高NA EUVプロセス開発、および先端ノードの歩留まり向上に使用されます。
EUVリソグラフィ計測および検査装置は、狭義の実験室測定機器のグループとしてではなく、ミッションクリティカルなプロセス制御レイヤーとして理解されるべきです。DUVからEUVへの移行により、反射型多層マスクアーキテクチャ、13.5nmの露光波長、確率的欠陥、薄いレジスト、より厳しいオーバーレイ予算、そしてはるかに狭いプロセスウィンドウが導入されます。その結果、ファブとマスクショップは、従来のCDおよびオーバーレイ指標だけでなく、プリント可能なマスク欠陥、マスクブランク欠陥、ペリクル粒子、パターン配置エラー、レジストプロファイル変動、エッチング後CD挙動、およびEUV層間の欠陥再現性も制御する必要があります。これが、適切な産業スコープには、EUVマスクおよびマスクブランク検査、レチクルアライメントおよび平坦度計測、アクチニックEUV検査、ウェーハCD-SEM、電子ビーム検査およびレビュー、光オーバーレイ、OCD、AFMベースの3D計測、および選択されたオフライン高分解能レビューシステムが含まれるべきである理由です。主要サプライヤーからの公式製品証拠は、これらのシステムがもはやオプションのR&Dツールではないことを示しています。これらはEUVプロセス開発、マスク認定、受入レチクルQA、および量産プロセス制御に深く組み込まれています。
需要の成長は、EUV層の増加、高NA EUVへの移行、先端ロジックノードへの移行、先端DRAMパターニング、および歩留まり学習サイクルの短縮の必要性によって牽引されています。需要基盤は、最先端ファウンドリ、ロジックIDM、先端メモリメーカー、EUVマスクショップ、マスクブランクサプライヤー、およびペリクル関連サプライヤーに集中しています。ASMLが2025年に開示した48台のEUVシステム出荷と208台の計測および検査システム出荷は、EUVスキャナの展開とプロセス制御装置の需要との間の構造的な関連性を示しています。業界団体の継続的なウェーハファブ装置成長予測は、EUV関連の計測および検査に対する肯定的な需要背景をさらに裏付けています。
技術競争は、単一ツールの精度から、ハイブリッドで高スループットなデータ豊富なプロセス制御へとシフトしています。マスク側では、非アクチニック法ではウェーハのプリント性を完全に予測できない可能性があるため、アクチニック検査とペリクルを介した機能がより重要になります。ウェーハ側では、確率的欠陥、レジストプロファイル変動、および複雑な3D構造を制御するために、CD-SEM、電子ビームレビュー、OCD、光オーバーレイ、AFM、および材料計測を組み合わせる必要があります。高NA EUVは、焦点深度とレジストプロセス裕度を厳しくすることにより、これらの課題を増幅させます。地域的なローカライズの取り組みは、隣接するCD-SEM、光計測、欠陥検査セグメントにおいて中国および地域サプライヤーに機会を創出しますが、最高級のEUV専用ツールは、今後数年間、確立された米国、日本、欧州のサプライヤーに集中したままである可能性が高いです。
政策環境および地域サプライチェーンの観点から見ると、EUVリソグラフィ計測および検査装置は、先端半導体エコシステムにおける戦略的な制御点となっています。米国、日本、および同盟国の管轄区域における輸出管理政策は、先端ノード生産に使用される特定の計測および検査ツールを含む、先端半導体製造装置へのアクセスを厳格化しています。同時に、EUの半導体政策枠組みは、サプライチェーンの回復力、技術的優位性、および外部ソースへの依存度の低減を強調しています。これらの政策シグナルは、EUV関連プロセス制御装置の戦略的価値を強化します。なぜなら、マスク検査、レチクル計測、CD-SEM、電子ビームレビュー、オーバーレイ計測、および高NA EUV 3D計測が、最先端ファブが3nm、2nm、そしてそれ以降の歩留まりを向上させることができるかどうかに直接影響するからです。地域サプライチェーンの観点から見ると、業界は米国、日本、および欧州に構造的に集中したままであり、韓国、イスラエル、および少数の専門的な欧州スタートアップ企業がAFM、材料計測、および3Dプロセス制御においてニッチな能力を提供しています。中国は、CD-SEM、電子ビーム検査、光計測、OCD、膜計測、ウェーハ欠陥検査などの隣接する検査および計測セグメントで国内代替を加速していますが、公開されている証拠は、最高級のEUV専用ツール、特にアクチニックEUVマスク検査および高NA EUVプロセス制御プラットフォームが、依然として確立された海外サプライヤーに支配されていることを示唆しています。その結果、地域化により、現地サービス、アプリケーションサポート、および一部の国内装置プラットフォームへの投資が増加しますが、EUV特有の計測および検査の中核サプライチェーンは、中期的に非常に集中したままである可能性が高いです。
この決定版レポートは、ビジネスリーダー、意思決定者、および利害関係者に対し、世界のEUVリソグラフィ計測および検査装置市場の360°ビューを提供し、バリューチェーン全体の生産能力と販売実績をシームレスに統合しています。本レポートは、過去の生産、収益、および販売データ（2021年～2025年）を分析し、2032年までの予測を提供することで、需要トレンドと成長ドライバーを明らかにします。
市場をタイプ別およびアプリケーション別にセグメント化することで、本調査は数量と価値、成長率、技術革新、ニッチな機会、および代替リスクを定量化し、ダウンストリーム顧客の流通パターンを分析しています。
詳細な地域インサイトは、5つの主要市場（北米、欧州、APAC、南米、およびMEA）をカバーし、20カ国以上の詳細な分析を含んでいます。各地域の主要製品、競争環境、およびダウンストリーム需要トレンドが明確に詳述されています。
重要な競合インテリジェンスは、メーカー（生産能力、販売量、収益、利益率、価格戦略、主要顧客）をプロファイルし、製品ライン、アプリケーション、および地域にわたるトッププレイヤーの位置付けを分析して、戦略的強みを明らかにします。
簡潔なサプライチェーンの概要は、上流サプライヤー、製造技術、コスト構造、および流通ダイナミクスをマッピングし、戦略的なギャップと満たされていない需要を特定します。
[市場セグメンテーション]
企業別
ASMLホールディングN.V.
アプライドマテリアルズ株式会社
KLAコーポレーション
カール・ツァイスAG
株式会社日立ハイテク
レーザーテック株式会社
株式会社堀場製作所
オント・イノベーション株式会社
ノバ・リミテッド
パーク・システムズ・コーポレーション
ニアフィールド・インスツルメンツB.V.
EUVテック株式会社
タイプ別セグメント
EUVマスク検査装置
ウェーハCD計測装置
オーバーレイ計測装置
その他のサポート計測装置
計測技術別セグメント
アクチニックEUV検査
CD-SEM計測
AFM / プローブ計測
X線 / 軟X線計測
その他
装置展開モード別セグメント
インライン計測装置
オフラインレビュー装置
アプリケーション別セグメント
マスクブランク認定
リソグラフィプロセス設定
高NA EUVプロセス開発
その他
地域別売上
北米
米国
カナダ
メキシコ
アジア太平洋
中国
日本
韓国
インド
中国台湾
東南アジア（インドネシア、ベトナム、タイ）
その他のアジア
欧州
ドイツ
フランス
英国
イタリア
ロシア
中南米
ブラジル
アルゼンチン
その他の中南米
中東・アフリカ
トルコ
エジプト
GCC諸国
南アフリカ
その他の中東・アフリカ
[章構成]
第1章：EUVリソグラフィ計測および検査装置の調査範囲を定義し、市場をタイプ別、アプリケーション別などにセグメント化し、セグメントの規模と成長潜在力を強調します。
第2章：現在の市場状況を提供し、2032年までの世界の収益、販売、生産を予測し、高消費地域と新興市場の触媒を特定します。
第3章：メーカーの状況を分析します。数量および収益によるランキング、収益性および価格設定の分析、生産拠点のマッピング、製品タイプ別のメーカー実績の詳細、M&Aの動きと並行した集中度評価を行います。
第4章：高利益率製品セグメントを明らかにします。販売、収益、平均販売価格（ASP）、および技術的差別化要因を比較し、成長ニッチと代替リスクを強調します。
第5章：ダウンストリーム市場機会を対象とします。アプリケーション別の販売、収益、価格設定を評価し、新たなユースケースを特定し、地域別およびアプリケーション別の主要顧客をプロファイルします。
第6章：世界の生産能力、稼働率、および市場シェア（2021年～2032年）をマッピングし、効率的なハブを特定し、規制/貿易政策の影響とボトルネックを明らかにします。
第7章：北米：アプリケーション別および国別の販売および収益を分析し、主要メーカーをプロファイルし、成長ドライバーと障壁を評価します。
第8章：欧州：アプリケーション別およびメーカー別の地域販売、収益、市場を分析し、ドライバーと障壁を指摘します。
第9章：アジア太平洋：アプリケーション別、地域/国別の販売および収益を定量化し、トップメーカーをプロファイルし、高い潜在的拡大分野を発見します。
第10章：中南米：アプリケーション別および国別の販売および収益を測定し、トップメーカーをプロファイルし、投資機会と課題を特定します。
第11章：中東およびアフリカ：アプリケーション別および国別の販売および収益を評価し、主要メーカーをプロファイルし、投資見通しと市場の障害を概説します。
第12章：メーカーを詳細にプロファイルします。製品仕様、生産能力、販売、収益、利益率を詳述し、トップメーカーの2025年販売実績を製品タイプ別、アプリケーション別、販売地域別のSWOT分析、および最近の戦略的動向に分けて分析します。
第13章：サプライチェーン：上流の原材料とサプライヤー、製造フットプリントと技術、コストドライバー、さらに下流チャネルと流通業者の役割を分析します。
第14章：市場ダイナミクス：ドライバー、制約、規制の影響、およびリスク軽減戦略を探ります。
第15章：実行可能な結論と戦略的推奨事項。
[本レポートを選ぶ理由]
標準的な市場データを超えて、この分析は明確な収益性ロードマップを提供し、以下を可能にします。
高成長地域（第7章～第11章）および利益率の高いセグメント（第5章）に戦略的に資本を配分することができます。
コストと需要のインテリジェンスを活用して、サプライヤー（第13章）および顧客（第6章）と有利に交渉することができます。
競合他社の事業、利益率、および戦略に関する詳細な洞察（第4章および第12章）を得て、競合他社を出し抜くことができます。
上流および下流の可視性（第13章および第14章）を通じて、サプライチェーンを混乱から守ることができます。
この360°のインテリジェンスを活用して、市場の複雑さを実行可能な競争優位性へと変えることができます。
レポート目次1 本調査の対象範囲
1.1 EUVリソグラフィー用計測・検査装置の概要：定義、特性、および主要な特徴
1.2 種類別の市場区分
1.2.1 種類別世界EUVリソグラフィー用計測・検査装置市場規模（2021年、2025年、2032年比較）
1.2.2 EUVマスク検査装置
1.2.3 ウェーハCD計測装置
1.2.4 オーバーレイ計測装置
1.2.5 その他の支援計測装置
1.3 測定技術別の市場区分
1.3.1 測定技術別の世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置市場規模（2021年、2025年、2032年）
1.3.2 アクティニックEUV検査
1.3.3 CD-SEM計測
1.3.4 AFM／プローブ計測
1.3.5 X線／軟X線計測
1.3.6 その他
1.4 装置導入形態別の市場区分
1.4.1 機器導入形態別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置市場規模（2021年、2025年、2032年比較）
1.4.2 インライン計測装置
1.4.3 オフラインレビュー装置
1.5 用途別市場セグメンテーション
1.5.1 用途別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置市場規模（2021年、2025年、2032年）
1.5.2 マスクブランクの認定
1.5.3 リソグラフィープロセスのセットアップ
1.5.4 高NA EUVプロセスの開発
1.5.5 その他
1.6 仮定および制限事項
1.7 本調査の目的
1.8 対象期間
2 エグゼクティブ・サマリー
2.1 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高推計および予測（2021年～2032年）
2.2 地域別世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高
2.2.1 売上高の比較：2021年、2025年、2032年
2.2.2 地域別世界売上高ベースの市場シェア（2021年～2032年）
2.3 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売台数推計および予測（2021年～2032年）
2.4 地域別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置の販売状況
2.4.1 販売比較：2021年、2025年、2032年
2.4.2 地域別世界販売市場シェア（2021年～2032年）
2.4.3 新興市場に焦点を当てた分析：成長要因と投資動向
2.5 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力と稼働率（2021年、2025年、2032年の比較）
2.6 地域別生産量の比較：2021年、2025年、2032年
3 競争環境
3.1 メーカー別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置売上高
3.1.1 メーカー別世界販売数量（2021年～2026年）
3.1.2 販売数量に基づく世界トップ5およびトップ10メーカーの市場シェア（2025年）
3.2 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置メーカー別売上高ランキングおよびティア別分類
3.2.1 メーカー別世界売上高（金額）（2021年～2026年）
3.2.2 主要メーカーの世界売上高ランキング（2024年対2025年）
3.2.3 売上高に基づくティア別分類（ティア1、ティア2、ティア3）
3.3 メーカーの収益性プロファイルおよび価格戦略
3.3.1 主要メーカー別の粗利益率（2021年対2025年）
3.3.2 メーカーレベルの価格動向（2021年～2026年）
3.4 主要メーカーの生産拠点および本社
3.5 製品タイプ別主要メーカーの市場シェア
3.5.1 EUVマスク検査装置：主要メーカー別市場シェア
3.5.2 ウェーハCD計測装置：主要メーカー別市場シェア
3.5.3 オーバーレイ計測装置：主要メーカー別市場シェア
3.5.4 その他の補助計測装置：主要メーカー別市場シェア
3.6 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置市場における集中度と動向
3.6.1 世界の市場集中度
3.6.2 市場参入・撤退分析
3.6.3 戦略的動き：M&A、生産能力拡大、研究開発投資
4 製品セグメンテーション
4.1 タイプ別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置の販売実績
4.1.1 タイプ別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置の販売数量（2021年～2032年）
4.1.2 タイプ別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（2021年～2032年）
4.1.3 種類別世界平均販売価格（ASP）の推移（2021年～2032年）
4.2 測定技術別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置の販売実績
4.2.1 測定技術別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置の販売数量（2021年～2032年）
4.2.2 測定技術別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置売上高（2021-2032年）
4.2.3 測定技術別世界平均販売価格（ASP）の推移（2021-2032年）
4.3 設備導入形態別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置の販売実績
4.3.1 設備導入形態別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置の販売数量（2021年～2032年）
4.3.2 設備導入形態別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置売上高（2021-2032年）
4.3.3 設備導入形態別世界平均販売価格（ASP）の動向（2021-2032年）
4.4 製品技術の差別化
4.5 サブタイプの動向：成長の牽引役、収益性およびリスク
4.5.1 高成長ニッチ市場と導入推進要因
4.5.2 収益性の高い分野とコスト要因
4.5.3 代替品の脅威
5 下流用途および顧客
5.1 用途別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置売上高
5.1.1 用途別世界売上高の過去実績および予測（2021-2032年）
5.1.2 用途別世界売上高市場シェア（2021-2032年）
5.1.3 高成長用途の特定
5.1.4 新興用途のケーススタディ
5.2 用途別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高
5.2.1 用途別世界売上高の過去実績および予測（2021年～2032年）
5.2.2 用途別売上高ベースの市場シェア（2021年～2032年）
5.3 用途別世界価格動向（2021-2032年）
5.4 下流顧客分析
5.4.1 地域別主要顧客
5.4.2 用途別主要顧客
6 世界生産分析
6.1 世界EUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力および稼働率（2021–2032年）
6.2 地域別生産動向と見通し
6.2.1 地域別過去生産実績（2021年～2026年）
6.2.2 地域別生産予測（2027年～2032年）
6.2.3 地域別生産市場シェア（2021年～2032年）
6.2.4 規制および貿易政策が生産に与える影響
6.2.5 生産能力の促進要因と制約要因
6.3 主要な地域別生産拠点
6.3.1 北米
6.3.2 欧州
6.3.3 日本
6.3.4 イスラエル
6.3.5 韓国
7 北米
7.1 北米の販売数量および売上高 （2021年～2032年）
7.2 2025年の北米主要メーカーの売上高
7.3 北米のEUVリソグラフィー計測・検査装置の用途別販売数量および売上高（2021年～2032年）
7.4 北米の成長促進要因および市場参入障壁
7.5 北米のEUVリソグラフィー計測・検査装置市場規模（国別）
7.5.1 北米の国別売上高
7.5.2 北米の国別販売動向
7.5.3 米国
7.5.4 カナダ
7.5.5 メキシコ
8 欧州
8.1 欧州の販売数量および売上高（2021年～2032年）
8.2 2025年の欧州主要メーカーの売上高
8.3 欧州におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売数量および売上高（用途別）（2021-2032年）
8.4 欧州の成長促進要因および市場障壁
8.5 欧州のEUVリソグラフィー計測・検査装置市場規模（国別）
8.5.1 欧州の売上高（国別）
8.5.2 欧州の販売動向（国別）
8.5.3 ドイツ
8.5.4 フランス
8.5.5 英国
8.5.6 イタリア
8.5.7 ロシア
9 アジア太平洋地域
9.1 アジア太平洋地域の販売数量および売上高（2021-2032年）
9.2 2025年のアジア太平洋地域主要メーカーの売上高
9.3 アジア太平洋地域のEUVリソグラフィー計測・検査装置の用途別販売数量および売上高（2021年～2032年）
9.4 アジア太平洋地域のEUVリソグラフィー計測・検査装置の地域別市場規模
9.4.1 アジア太平洋地域の地域別売上高
9.4.2 アジア太平洋地域の地域別販売動向
9.5 アジア太平洋地域の成長促進要因および市場障壁
9.6 東南アジア
9.6.1 東南アジアの国別売上高（2021年対2025年対2032年）
9.6.2 主要国分析：インドネシア、ベトナム、タイ
9.7 中国
9.8 日本
9.9 韓国
9.10 中国台湾
9.11 インド
10 中南米
10.1 中南米の販売数量および売上高（2021年～2032年）
10.2 2025年の中南米主要メーカーの売上高
10.3 中南米のEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売数量および売上高（用途別、2021年～2032年）
10.4 中南米の投資機会と主な課題
10.5 中南米のEUVリソグラフィー計測・検査装置市場規模（国別）
10.5.1 中南米の売上高の推移（国別）（2021年対2025年対2032年）
10.5.2 ブラジル
10.5.3 アルゼンチン
11 中東・アフリカ
11.1 中東・アフリカの販売数量および売上高（2021年～2032年）
11.2 2025年の中東・アフリカの主要メーカーの売上高
11.3 中東・アフリカのEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売数量および売上高（用途別）（2021年～2032年）
11.4 中東・アフリカの投資機会と主要な課題
11.5 中東・アフリカにおけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の市場規模（国別）
11.5.1 中東・アフリカにおける売上高の推移（国別）（2021年対2025年対2032年）
11.5.2 GCC諸国
11.5.3 トルコ
11.5.4 エジプト
11.5.5 南アフリカ
12 企業概要
12.1 ASML Holding N.V.
12.1.1 ASML Holding N.V. 企業情報
12.1.2 ASML Holding N.V. 事業概要
12.1.3 ASML Holding N.V. EUVリソグラフィー計測・検査装置の製品モデル、説明および仕様
12.1.4 ASML Holding N.V.のEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力、販売台数、価格、売上高、粗利益率（2021年～2026年）
12.1.5 ASML Holding N.V.のEUVリソグラフィー計測・検査装置の2025年における製品別販売状況
12.1.6 ASML Holding N.V.のEUVリソグラフィー計測・検査装置の2025年における用途別売上高
12.1.7 ASML Holding N.V.のEUVリソグラフィー計測・検査装置の2025年における地域別売上高
12.1.8 ASML Holding N.V.のEUVリソグラフィー計測・検査装置のSWOT分析
12.1.9 ASML Holding N.V.の最近の動向
12.2 アプライド・マテリアルズ社
12.2.1 アプライド・マテリアルズ社の企業情報
12.2.2 アプライド・マテリアルズ社の事業概要
12.2.3 アプライド・マテリアルズ社のEUVリソグラフィー計測・検査装置の製品モデル、説明および仕様
12.2.4 アプライド・マテリアルズ社のEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力、販売台数、価格、売上高、粗利益率（2021年～2026年）
12.2.5 アプライド・マテリアルズ社のEUVリソグラフィー計測・検査装置の2025年製品別販売状況
12.2.6 アプライド・マテリアルズ社製 EUV リソグラフィー計測・検査装置の2025年用途別売上高
12.2.7 アプライド・マテリアルズ社製 EUV リソグラフィー計測・検査装置の2025年地域別売上高
12.2.8 アプライド・マテリアルズ社製 EUV リソグラフィー計測・検査装置のSWOT分析
12.2.9 アプライド・マテリアルズ社の最近の動向
12.3 KLAコーポレーション
12.3.1 KLAコーポレーションの企業情報
12.3.2 KLAコーポレーションの事業概要
12.3.3 KLAコーポレーションのEUVリソグラフィー計測・検査装置の製品モデル、説明および仕様
12.3.4 KLA CorporationのEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力、販売台数、価格、売上高、粗利益率（2021年～2026年）
12.3.5 KLA CorporationのEUVリソグラフィー計測・検査装置の2025年における製品別売上高
12.3.6 KLAコーポレーションのEUVリソグラフィー計測・検査装置の2025年用途別売上高
12.3.7 KLAコーポレーションのEUVリソグラフィー計測・検査装置の2025年地域別売上高
12.3.8 KLAコーポレーションのEUVリソグラフィー計測・検査装置に関するSWOT分析
12.3.9 KLAコーポレーションの最近の動向
12.4 カール・ツァイスAG
12.4.1 カール・ツァイスAGの企業情報
12.4.2 カール・ツァイスAGの事業概要
12.4.3 カール・ツァイスAGのEUVリソグラフィー計測・検査装置の製品モデル、説明および仕様
12.4.4 カール・ツァイスAGのEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力、販売台数、価格、売上高および粗利益率（2021年～2026年）
12.4.5 カール・ツァイスAGのEUVリソグラフィー計測・検査装置の2025年における製品別売上高
12.4.6 カール・ツァイスAGのEUVリソグラフィー計測・検査装置の2025年における用途別売上高
12.4.7 カール・ツァイスAGのEUVリソグラフィー計測・検査装置の2025年における地域別売上高
12.4.8 カール・ツァイスAGのEUVリソグラフィー計測・検査装置に関するSWOT分析
12.4.9 カール・ツァイスAGの最近の動向
12.5 日立ハイテク株式会社
12.5.1 日立ハイテク株式会社の企業情報
12.5.2 日立ハイテク株式会社の事業概要
12.5.3 日立ハイテク株式会社のEUVリソグラフィー計測・検査装置の製品モデル、説明および仕様
12.5.4 日立ハイテク株式会社のEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力、販売台数、価格、売上高および粗利益率（2021年～2026年）
12.5.5 日立ハイテク株式会社のEUVリソグラフィー計測・検査装置の2025年における製品別売上高
12.5.6 日立ハイテク株式会社のEUVリソグラフィー計測・検査装置の2025年における用途別売上高
12.5.7 日立ハイテク株式会社のEUVリソグラフィー計測・検査装置の2025年における地域別売上高
12.5.8 日立ハイテク株式会社のEUVリソグラフィー計測・検査装置に関するSWOT分析
12.5.9 日立ハイテク株式会社の最近の動向
12.6 レーザーテック株式会社
12.6.1 レーザーテック株式会社の企業情報
12.6.2 レーザーテック株式会社の事業概要
12.6.3 レーザーテック株式会社のEUVリソグラフィー計測・検査装置の製品モデル、説明および仕様
12.6.4 レーザーテック株式会社のEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力、販売台数、価格、売上高および粗利益率（2021年～2026年）
12.6.5 レーザーテック株式会社の最近の動向
12.7 株式会社ホリバ
12.7.1 株式会社ホリバの企業情報
12.7.2 株式会社ホリバの事業概要
12.7.3 株式会社ホリバのEUVリソグラフィー用計測・検査装置の製品モデル、説明および仕様
12.7.4 株式会社ホリバのEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力、販売台数、価格、売上高、粗利益率（2021年～2026年）
12.7.5 株式会社ホリバの最近の動向
12.8 オント・イノベーション社
12.8.1 オント・イノベーション社の企業情報
12.8.2 オント・イノベーション社の事業概要
12.8.3 オント・イノベーション社のEUVリソグラフィー計測・検査装置の製品モデル、説明および仕様
12.8.4 オント・イノベーション社のEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力、販売数量、価格、売上高および粗利益率（2021年～2026年）
12.8.5 オント・イノベーション社の最近の動向
12.9 ノヴァ社
12.9.1 ノヴァ社の企業情報
12.9.2 ノヴァ社の事業概要
12.9.3 ノヴァ社のEUVリソグラフィー計測・検査装置の製品モデル、説明および仕様
12.9.4 Nova Ltd.のEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力、販売台数、価格、売上高および粗利益率（2021年～2026年）
12.9.5 Nova Ltd.の最近の動向
12.10 Park Systems Corp.
12.10.1 Park Systems Corp.の企業情報
12.10.2 Park Systems Corp.の事業概要
12.10.3 パーク・システムズ社のEUVリソグラフィー計測・検査装置の製品モデル、説明および仕様
12.10.4 パーク・システムズ社のEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力、販売台数、価格、売上高および粗利益率（2021年～2026年）
12.10.5 パーク・システムズ社の最近の動向
12.11 ニアフィールド・インスツルメンツB.V.
12.11.1 ニアフィールド・インスツルメンツB.V. 企業情報
12.11.2 ニアフィールド・インスツルメンツB.V. 事業概要
12.11.3 ニアフィールド・インスツルメンツB.V. EUVリソグラフィー計測・検査装置の製品モデル、説明および仕様
12.11.4 ニアフィールド・インスツルメンツB.V.のEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力、販売数量、価格、売上高、粗利益率（2021年～2026年）
12.11.5 ニアフィールド・インスツルメンツB.V.の最近の動向
12.12 EUVテック社
12.12.1 EUVテック社の企業情報
12.12.2 EUV Tech, Inc. 事業概要
12.12.3 EUV Tech, Inc. EUVリソグラフィー計測・検査装置の製品モデル、説明および仕様
12.12.4 EUV Tech, Inc. EUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力、販売数量、価格、売上高および粗利益率（2021年～2026年）
12.12.5 EUV Tech, Inc.の最近の動向
13 バリューチェーンおよびサプライチェーン分析
13.1 EUVリソグラフィー計測・検査装置の産業チェーン
13.2 EUVリソグラフィー計測・検査装置の上流材料分析
13.2.1 原材料
13.2.2 主要サプライヤーの市場シェアおよびリスク評価
13.3 EUVリソグラフィー計測・検査装置の統合生産分析
13.3.1 製造拠点分析
13.3.2 生産技術の概要
13.3.3 地域別のコスト要因
13.4 EUVリソグラフィー計測・検査装置の販売チャネルおよび流通ネットワーク
13.4.1 販売チャネル
13.4.2 販売代理店
14 EUVリソグラフィー計測・検査装置市場の動向
14.1 業界のトレンドと進化
14.2 市場の成長要因と新たな機会
14.3 市場の課題、リスク、および制約要因
14.4 米国の関税の影響
15 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置に関する調査の主な結果
16 付録
16.1 調査方法論
16.1.1 方法論／調査アプローチ
16.1.1.1 調査プログラム／設計
16.1.1.2 市場規模の推計
16.1.1.3 市場の細分化とデータの三角検証
16.1.2 データソース
16.1.2.1 二次情報源
16.1.2.2 一次情報源
16.2 著者情報
表1. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置市場規模の成長率（種類別、2021年対2025年対2032年）（百万米ドル）
表2. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置市場規模の成長率（測定技術別、2021年対2025年対2032年）（百万米ドル）
表3. 機器導入形態別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置市場規模の成長率（2021年対2025年対2032年）（百万米ドル）
表4. 用途別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置市場規模の成長率：2021年対2025年対2032年（百万米ドル）
表5. 地域別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置売上高の成長率（CAGR）：2021年対2025年対2032年 （百万米ドル）
表6. 地域別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置販売台数成長率（CAGR）：2021年対2025年対2032年（台）
表7. 新興市場における国別売上高成長率（CAGR）（2021年対2025年対2032年）（百万米ドル）
表8. 地域別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置生産成長率（CAGR）：2021年対2025年対2032年（台数）
表9. メーカー別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置販売台数（2021年～2026年）
表10. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置のメーカー別販売シェア（2021年～2026年）
表11. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置のメーカー別売上高（百万米ドル）、2021年～2026年
表12. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置のメーカー別売上高ベースの市場シェア（2021年～2026年）
表13. 世界の主要メーカーの順位変動（2024年対2025年） （売上高ベース）
表14. EUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高に基づく、ティア別（Tier 1、Tier 2、Tier 3）の世界メーカー別内訳（2025年）
表15. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置のメーカー別平均粗利益率（%）（2021年対2025年）
表16. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置のメーカー別平均販売価格（ASP）（米ドル/台）、2021年～2026年
表17. 主要メーカーのEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産拠点および本社所在地
表18. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置市場の集中率（CR5）
表19. 主要な市場参入・撤退（2021年～2025年）－要因および影響分析
表20. 主要な合併・買収、拡張計画、研究開発投資
表21. 種類別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置販売台数（台）、2021年～2026年
表22. 種類別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置販売台数（台）、2027年～2032年
表23. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（種類別、百万米ドル）、2021年～2026年
表24. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（種類別、百万米ドル）、2027年～2032年
表25. 測定技術別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置販売台数（台）、2021年～2026年
表26. 測定技術別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置販売台数（台）、2027年～2032年
表27. 測定技術別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置売上高（百万米ドル）、2021年～2026年
表28. 測定技術別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置売上高（百万米ドル）、2027年～2032年
表29. 設備導入形態別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置販売台数（台）、2021年～2026年
表30. 設備導入形態別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置販売台数（台）、2027年～2032年
表31. 機器導入形態別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置売上高（百万米ドル）、2021年～2026年
表32. 機器導入形態別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置売上高（百万米ドル）、2027年～2032年
表33. 主要製品タイプ別の技術仕様
表34. 用途別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置販売台数（台）、2021年～2026年
表35. 用途別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置販売台数（台）、2027年～2032年
表36. EUVリソグラフィー計測・検査装置の高成長セクターにおける需要の年平均成長率（CAGR）（2026-2032年）
表37. 用途別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置売上高（百万米ドル）、2021-2026年
表38. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（用途別、百万米ドル）、2027年～2032年
表39. 地域別主要顧客
表40. 用途別主要顧客
表41. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産台数（地域別、台）、2021年～2026年
表42. 地域別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置生産台数（台）、2027年～2032年
表43. 北米EUVリソグラフィー計測・検査装置の成長促進要因および市場障壁
表44. 国別北米EUVリソグラフィー計測・検査装置売上高成長率（CAGR） （2021年対2025年対2032年）（百万米ドル）
表45. 北米におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売台数（国別）（2021年対2025年対2032年）
表46. 欧州のEUVリソグラフィー計測・検査装置の成長促進要因と市場障壁
表47. 欧州のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高成長率（CAGR）：国別（2021年対2025年対2032年）（百万米ドル）
表48. 欧州のEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売台数（台）：国別 （2021年対2025年対2032年）
表49. アジア太平洋地域のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高成長率（CAGR）：2021年対2025年対2032年 （百万米ドル）
表50. アジア太平洋地域のEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売台数（国別）（2021年対2025年対2032年）
表51. アジア太平洋地域のEUVリソグラフィー計測・検査装置の成長促進要因および市場障壁
表52. 東南アジアのEUVリソグラフィー計測・検査装置の地域別売上高成長率（CAGR）：2021年対2025年対2032年（百万米ドル）
表53. 中南米のEUVリソグラフィー計測・検査装置の投資機会と主要な課題
表54. 中南米のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高成長率（CAGR）：国別（2021年対2025年対2032年）（百万米ドル）
表55. 中東・アフリカのEUVリソグラフィー計測・検査装置の投資機会と主要な課題
表56. 中東・アフリカにおけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の国別売上高成長率（CAGR）（2021年対2025年対2032年）（百万米ドル）
表57. ASML Holding N.V.の企業情報
表58. ASML Holding N.V.の概要および主要事業
表59. ASML Holding N.V.の製品モデル、概要および仕様
表60. ASML Holding N.V.の生産能力、販売台数、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）、粗利益率（2021年～2026年）
表61. 2025年のASML Holding N.V.の製品別売上高構成比
表62. ASML Holding N.V.の2025年における用途別売上高構成比
表63. ASML Holding N.V.の2025年における地域別売上高構成比
表64. ASML Holding N.V.のEUVリソグラフィー計測・検査装置に関するSWOT分析
表65. ASML Holding N.V.の最近の動向
表66. Applied Materials, Inc.の企業情報
表67. アプライド・マテリアルズ社の概要および主要事業
表68. アプライド・マテリアルズ社の製品モデル、説明および仕様
表69. アプライド・マテリアルズ社の生産能力、販売台数、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）、粗利益率（2021年～2026年）
表70. アプライド・マテリアルズ社の2025年における製品別売上高構成比
表71. アプライド・マテリアルズ社の2025年における用途別売上高構成比
表72. アプライド・マテリアルズ社の2025年における地域別売上高構成比
表73. アプライド・マテリアルズ社のEUVリソグラフィー計測・検査装置に関するSWOT分析
表74. アプライド・マテリアルズ社の最近の動向
表75. KLAコーポレーションの企業情報
表76. KLAコーポレーションの概要および主要事業
表77. KLAコーポレーションの製品モデル、説明および仕様
表78. KLAコーポレーションの生産能力、販売台数、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）、粗利益率（2021年～2026年）
表79. KLA Corporationの2025年における製品別売上高構成比
表80. KLA Corporationの2025年における用途別売上高構成比
表81. KLA Corporationの2025年における地域別売上高構成比
表82. KLA CorporationのEUVリソグラフィー計測・検査装置に関するSWOT分析
表83. KLA Corporationの最近の動向
表84. カール・ツァイスAGの企業情報
表85. カール・ツァイスAGの概要および主要事業
表86. カール・ツァイスAGの製品モデル、説明および仕様
表87. カール・ツァイスAGの生産能力、販売台数、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）、粗利益率（2021年～2026年）
表88. カール・ツァイスAGの2025年における製品別売上高構成比
表89. カール・ツァイスAGの2025年における用途別売上高構成比
表90. カール・ツァイスAGの2025年における地域別売上高構成比
表91. カール・ツァイスAGのEUVリソグラフィー計測・検査装置に関するSWOT分析
表92. カール・ツァイスAGの最近の動向
表93. 日立ハイテク株式会社の企業情報
表94. 日立ハイテク株式会社の概要および主要事業
表95. 日立ハイテク株式会社の製品モデル、説明および仕様
表96. 日立ハイテク株式会社の生産能力、販売台数、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）、粗利益率（2021年～2026年）
表97. 日立ハイテク株式会社の2025年における製品別売上高構成比
表98. 日立ハイテク株式会社の2025年における用途別売上高構成比
表99. 日立ハイテク株式会社の2025年における地域別売上高構成比
表100. 日立ハイテク株式会社のEUVリソグラフィー計測・検査装置に関するSWOT分析
表101. 日立ハイテク株式会社の最近の動向
表102. レーザーテック株式会社の企業情報
表103. レーザーテック株式会社の概要および主要事業
表104. レーザーテック株式会社の製品モデル、説明および仕様
表105. レーザーテック株式会社の生産能力、販売台数、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル／台）、粗利益率（2021年～2026年）
表106. レーザーテック株式会社の最近の動向
表107. 株式会社ホリバの企業情報
表108. 株式会社ホリバの概要および主要事業
表109. 株式会社HORIBAの製品モデル、説明および仕様
表110. 株式会社HORIBAの生産能力、販売台数、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）および粗利益率（2021年～2026年）
表111. 株式会社HORIBAの最近の動向
表112. オント・イノベーション社 企業情報
表113. オント・イノベーション社 概要および主要事業
表114. オント・イノベーション社 製品モデル、概要および仕様
表115. オント・イノベーション社 生産能力、販売台数、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）および粗利益率（2021年～2026年）
表116. オント・イノベーション社の最近の動向
表117. ノヴァ社の企業情報
表118. ノヴァ社の概要および主要事業
表119. ノヴァ社の製品モデル、説明および仕様
表120. ノヴァ社の生産能力、販売台数、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）および粗利益率 （2021-2026年）
表121. ノヴァ・リミテッドの最近の動向
表122. パーク・システムズ・コーポレーションの企業情報
表123. パーク・システムズ社の概要および主要事業
表124. パーク・システムズ社の製品モデル、概要および仕様
表125. パーク・システムズ社の生産能力、販売台数、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）および粗利益率（2021-2026年）
表126. パーク・システムズ社の最近の動向
表127. ニアフィールド・インスツルメンツB.V. 企業情報
表128. ニアフィールド・インスツルメンツB.V. 概要および主要事業
表129. ニアフィールド・インスツルメンツB.V. 製品モデル、説明および仕様
表130. ニアフィールド・インスツルメンツB.V. 生産能力、販売台数、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）および粗利益率 （2021年～2026年）
表131. ニアフィールド・インスツルメンツB.V.の最近の動向
表132. EUVテック社の企業情報
表133. EUV Tech, Inc.の概要および主要事業
表134. EUV Tech, Inc.の製品モデル、説明および仕様
表135. EUV Tech, Inc.の生産能力、販売台数、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）および粗利益率（2021-2026年）
表136. EUV Tech, Inc.の最近の動向
表137. 主要原材料の分布
表138. 主要原材料サプライヤー
表139. 重要原材料のサプライヤー集中度（2025年）およびリスク指数
表140. 生産技術の進化におけるマイルストーン
表141. 販売代理店一覧
表142. 市場動向および市場の進化
表143. 市場の推進要因と機会
表144. 市場の課題、リスク、および制約要因
表145. 本レポートの調査プログラム／設計
表146. 二次情報源からの主要データ情報
表147. 一次情報源からの主要データ情報
図表一覧
図1. EUVリソグラフィー用計測・検査装置の製品画像
図2. タイプ別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置市場規模の成長率：2021年対2025年対2032年（百万米ドル）
図3. EUVマスク検査装置の製品画像
図4. ウェーハCD計測装置の製品画像
図5. オーバーレイ計測装置の製品画像
図6. その他の補助計測装置の製品画像
図7. 測定技術別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置市場規模の成長率（2021年対2025年対2032年）（百万米ドル）
図8. アクチニックEUV検査装置の製品画像
図9. CD-SEM計測装置の製品画像
図10. AFM／プローブ計測装置の製品画像
図11. X線／軟X線計測機器の製品画像
図12. その他の製品画像
図13. 機器導入形態別、世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置市場規模の成長率（2021年対2025年対2032年）（百万米ドル）
図14. インライン計測装置の製品画像
図15. オフラインレビュー装置の製品画像
図16. 用途別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置市場規模の成長率（2021年対2025年対2032年）（百万米ドル）
図17. マスクブランクの認定
図18. リソグラフィープロセスのセットアップ
図19. 高NA EUVプロセスの開発
図20. その他
図21. EUVリソグラフィー計測・検査装置レポートの対象期間
図22. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021年対2025年対2032年
図23. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021年～2032年
図24. 地域別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置売上高（CAGR）：2021年対2025年対2032年（百万米ドル）
図25. 地域別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置売上高ベースの市場シェア（2021年～2032年）
図26. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売台数（単位）、2021年～2032年
図27. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売台数（CAGR）地域別：2021年対2025年対2032年（単位）
図28. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売市場シェア（地域別、2021年～2032年）
図29. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力、生産量、稼働率（台数）：2021年対2025年対2032年
図30. 2025年のEUVリソグラフィー計測・検査装置販売台数における上位5社および上位10社の市場シェア
図31. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高ベースの市場シェアランキング（2025年）
図32. 売上高構成比によるティア別分布 （2021年対2025年）
図33. 2025年のEUVマスク検査装置のメーカー別売上高ベースの市場シェア
図34. 2025年のウェーハCD計測装置のメーカー別売上高ベースの市場シェア
図35. 2025年のオーバーレイ計測装置のメーカー別売上高ベースの市場シェア
図36. 2025年のメーカー別売上高ベースのその他の補助計測装置の市場シェア
図37. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置のタイプ別販売数量ベースの市場シェア（2021年～2032年）
図38. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置のタイプ別売上高ベースの市場シェア（2021年～2032年）
図39. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置のタイプ別平均販売価格（ASP）（米ドル／台）、2021年～2032年
図40. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の測定技術別販売数量ベースの市場シェア（2021年～2032年）
図41. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の測定技術別売上高ベースの市場シェア（2021年～2032年）
図42. 測定技術別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置の平均販売価格（ASP）（米ドル／台）、2021年～2032年
図43. 装置導入形態別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置の販売数量ベースの市場シェア（2021年～2032年）
図44. 設備導入形態別 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高ベースの市場シェア（2021年～2032年）
図45. 設備導入形態別 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の平均販売価格（ASP）（米ドル／台）、2021年～2032年
図46. 用途別 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売市場シェア （2021年～2032年）
図47. 用途別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高ベースの市場シェア（2021年～2032年）
図48. 用途別世界EUVリソグラフィー計測・検査装置の平均販売価格（ASP）（米ドル／台）、2021年～2032年
図49. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産能力、生産台数および稼働率（台）、2021-2032年
図50. 世界のEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産市場シェア（地域別）（2021-2032年）
図51. 生産能力の促進要因および制約要因
図52. 北米におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産成長率（台数）、2021年～2032年
図53. 欧州におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産成長率（台数）、2021年～2032年
図54. 日本におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産成長率（台数）、2021-2032年
図55. イスラエルにおけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産成長率（台数）、2021-2032年
図56. 韓国におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の生産成長率（台数）、2021年～2032年
図57. 北米におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売台数（前年比）（台数）、2021年～2032年
図58. 北米におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高の前年比（百万米ドル）、2021年～2032年
図59. 北米におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の主要メーカー上位5社の売上高（百万米ドル、2025年）
図60. 北米におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売台数（台）、用途別（2021年～2032年）
図61. 北米におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売売上高（百万米ドル）、用途別（2021年～2032年）
図62. 米国におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021年～2032年
図63. カナダにおけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021年～2032年
図64. メキシコのEUVリソグラフィー計測・検査装置売上高（百万米ドル）、2021年～2032年
図65. 欧州のEUVリソグラフィー計測・検査装置販売台数（前年比）（台）、2021年～2032年
図66. 欧州のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高の前年比（百万米ドル）、2021年～2032年
図67. 欧州のEUVリソグラフィー計測・検査装置における上位5社の売上高（百万米ドル）、2025年
図68. 欧州におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売台数（台）、用途別（2021年～2032年）
図69. 欧州におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、用途別（2021年～2032年）
図70. ドイツにおけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021-2032年
図71. フランスにおけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021-2032年
図72. 英国のEUVリソグラフィー計測・検査装置売上高（百万米ドル）、2021年～2032年
図73. イタリアのEUVリソグラフィー計測・検査装置売上高（百万米ドル）、2021年～2032年
図74. ロシアのEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021年～2032年
図75. アジア太平洋地域のEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売台数（前年比）、2021年～2032年
図76. アジア太平洋地域のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高の前年比（百万米ドル）、2021年～2032年
図77. アジア太平洋地域の主要8メーカーのEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2025年
図78. アジア太平洋地域のEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売台数（台）の用途別推移（2021年～2032年）
図79. アジア太平洋地域のEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売売上高（百万米ドル）の用途別推移（2021年～2032年）
図80. インドネシアのEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021-2032年
図81. 日本のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021-2032年
図82. 韓国のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、 2021年～2032年
図83. 中国・台湾のEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021年～2032年
図84. インドのEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021年～2032年
図85. 中南米におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売台数（前年比）（台）、2021年～2032年
図86. 中南米におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（前年比）（百万米ドル）、2021年～2032年
図87. 中南米におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の主要メーカー上位5社の売上高（百万米ドル、2025年）
図88. 中南米におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売台数（台）の用途別内訳（2021年～2032年）
図89. 中南米におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）の用途別内訳（2021年～2032年）
図90. ブラジルにおけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021年～2032年
図91. アルゼンチンにおけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021年～2032年
図92. 中東・アフリカにおけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売台数（前年比）（台）、2021年～2032年
図93. 中東・アフリカにおけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（前年比）（百万米ドル）、2021年～2032年
図94. 中東・アフリカ地域におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の主要メーカー上位5社の売上高（百万米ドル、2025年）
図95. 中東・アフリカ地域におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の販売台数（台）の用途別内訳（2021年～2032年）
図96. 中東・アフリカにおけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）：用途別（2021-2032年）
図97. GCC諸国におけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021-2032年
図98. トルコにおけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021年～2032年
図99. エジプトにおけるEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021年～2032年
図100. 南アフリカのEUVリソグラフィー計測・検査装置の売上高（百万米ドル）、2021年～2032年
図101. EUVリソグラフィー計測・検査装置の産業チェーンマップ
図102. 地域別EUVリソグラフィー計測・検査装置の製造拠点分布（%）
図103. EUVリソグラフィー計測・検査装置の生産プロセス
図104. 地域別EUVリソグラフィー計測・検査装置の生産コスト構造
図105. 流通チャネル（直接販売対代理店販売）
図106. 本レポートにおけるボトムアップおよびトップダウンアプローチ
図107. データの三角測量
図108. インタビュー対象となった主要幹部
| ※EUVリソグラフィは、最先端の半導体デバイス製造において不可欠な技術であり、その極めて微細なパターン形成能力によって、より高性能で省電力なチップの実現を可能にしています。しかし、EUV光は真空中でしか伝搬せず、レチクル（マスク）やウェハへのわずかな欠陥、パターン寸法のわずかなずれが、デバイスの性能や歩留まりに致命的な影響を与えるため、EUVリソグラフィのプロセスにおいては、極めて高精度な計測・検査が不可欠となります。EUVリソグラフィ用計測・検査装置は、このような要求に応え、プロセス全体の品質を保証し、生産歩留まりを最大化するために使用される専門的な装置群を指します。 これらの装置は大きく分けて、パターン欠陥を検出する「検査装置（Inspection）」と、パターン寸法や形状などを精密に測定する「計測装置（Metrology）」の二つに分類されます。用途は研究開発から量産まで多岐にわたり、レチクル製造からウェハプロセスに至るまで、あらゆる段階で活用されています。 まず、**パターン欠陥検査装置**についてご説明いたします。EUVリソグラフィでは、レチクル（マスク）上に形成されるパターンは非常に小さく、また多層膜構造を持つため、製造段階でのわずかな異物や膜の欠陥がそのままウェハに転写され、デバイスの不良を引き起こします。そのため、**EUVレチクル検査装置**は、レチクル上に存在する微細な異物、パターン欠陥、多層膜の欠陥などをナノメートルレベルで検出します。特にEUVレチクルは反射型であるため、多層膜内部の欠陥（ブランクス欠陥）がウェハ上で位相欠陥として転写される問題もあり、これを検出する高度な技術が求められています。ウェハプロセスにおいては、**EUVウェハ検査装置**が、レジスト露光後やエッチング後のウェハ表面に形成されたパターンの欠陥（例：ブリッジ、オープン、ショート、異物、剥がれなど）を検出します。これらの装置は、散乱光を利用した光学検査や、より高分解能な電子ビームを用いた検査など、様々な技術を組み合わせて欠陥を特定し、その後のレビューSEM（走査型電子顕微鏡）などで詳細な解析が行われます。 次に、**寸法・形状計測装置**についてです。EUVリソグラフィでは、パターン寸法が数ナノメートル単位で制御されるため、極めて精密な測定が必要です。代表的なものとして、**CD-SEM (Critical Dimension Scanning Electron Microscope)** があります。これは、電子ビームを用いてウェハ上のパターンの線幅（CD）、間隔、ピッチなどを高精度に測定する装置です。また、**OCD (Optical Critical Dimension)** 装置は、特定の波長の光をウェハ上のパターンに照射し、反射光や散乱光の回折パターンを解析することで、パターンの側壁角度、深さ、膜厚、あるいは積層構造の各層の寸法などを非破壊で測定します。FinFETやGAA（Gate-All-Around）構造のような複雑な3次元構造の計測には、これらの技術の組み合わせや、**AFM (Atomic Force Microscope)** による3次元形状測定も活用されます。さらに、異なる露光層間の位置合わせの精度はデバイス性能に直結するため、**重ね合わせ精度計測装置 (Overlay Metrology)** が、層間のパターンのずれをナノメートル以下の精度で測定し、露光装置の調整にフィードバックされます。膜厚や組成を精密に評価するためには、**エリプソメトリー**や**X線反射率法 (XRR)** といった装置も利用され、EUVリソグラフィで用いられる多層膜反射ミラーやレジストの特性評価に貢献しています。 これらの計測・検査装置は、研究開発段階においては、新しいEUVプロセスや材料、装置の評価、最適化のために活用されます。量産段階では、プロセスの安定稼働を維持するための品質管理、歩留まり向上、スループット向上に貢献しています。具体的には、製造ラインにおいて、露光装置やエッチング装置などのプロセス条件が常に最適に保たれているかを確認し、万が一の異常が発生した場合には迅速に検出して原因を特定し、手直しや調整を行うことで不良品の発生を抑えます。これにより、製品の信頼性を高め、製造コストの削減にも寄与しています。 関連技術としては、EUVリソグラフィの微細化に伴い、より小さな欠陥の検出や、より高精度な寸法計測が求められており、電子ビーム技術のさらなる高分解能化や、光学検査における欠陥感度の向上が進められています。また、EUV光が真空環境下でしか利用できないという特性から、EUV波長での直接的な検査・計測技術の開発も将来的な課題として挙げられます。さらに、AI（人工知能）や機械学習を活用したデータ解析、欠陥の自動分類、異常検知、プロセス制御へのフィードバックは、検査・計測の効率化と精度の向上を大きく促進しています。インラインでのリアルタイム計測技術も進化しており、プロセスのボトルネックを解消し、スループットを最大化する上で重要な役割を果たしています。このように、EUVリソグラフィ用計測・検査装置は、EUV技術の進化とともに常に新たな技術を取り入れ、半導体産業の発展を支える基盤技術として進化し続けているのです。 |
• 日本語訳：世界のEUVリソグラフィ用計測・検査装置市場展望・分析・予測（～2032年）：EUVマスク検査装置、ウェーハCD計測装置、オーバーレイ計測装置、その他の関連計測装置
• レポートコード：MRC6TCOQ31440 ▷ お問い合わせ（見積依頼・ご注文・質問）