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CMPスラリー市場 [製品タイプ別:酸化アルミニウム、セラミック、酸化セリウム、シリカ、その他;用途別:シリコンウェーハ、光学基板、ディスクドライブ部品、その他] – グローバル産業分析、規模、シェア、成長、トレンド、および予測、2024年~2034年

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CMPスラリー市場は、2023年に18.3億米ドルの規模に達し、2024年から2034年にかけて年平均成長率(CAGR)6.5%で成長し、2034年末には36.8億米ドルに達すると予測されています。

アナリストの見解では、CMPスラリー市場は、高度な半導体デバイスへの需要増加と3D NAND技術の普及により急速に拡大しています。人工知能(AI)、IoT、5Gインフラの分野では、より小型で効率的なチップの需要が高まっており、新たな潜在的成長機会が見込まれます。中国、台湾、米国、韓国といった主要国は、その先進的な半導体産業により市場を牽引しています。一方、インドやブラジルなどの新興国も、半導体製造工場への大規模投資により存在感を増しています。今後数年間は、特に半導体製造が環境に与える影響に対処するため、持続可能で革新的なスラリー配合に大きな成長の可能性があり、企業は次世代ノードや高性能コンピューティング産業における将来の成長機会を捉えるため、主要な半導体ハブとの戦略的提携に投資すべきであるとされています。

CMP(化学機械平坦化)スラリーは、ウェーハ表面の精密な研磨を可能にする不可欠な添加剤で構成されています。これは、ダイレベルおよびウェーハレベルのトポグラフィーを平坦化し、集積回路の相互接続に使用される余分な金属およびメタロイド材料を除去するために使用されます。通常、ナノサイズの研磨粉末が化学反応性溶液中に分散されており、これらの研磨粒子と化学物質が集積回路(IC)に必要な表面均一性を生み出します。スマートフォン、AI、自動運転車などの現代のガジェットに対する需要の高まりに伴い、この産業は急速に発展しています。研磨精度を高め、欠陥を最小限に抑えることを目的とした進歩、および持続可能性への重点化により、市場は今後数年間で大幅に拡大すると予想されています。

市場の成長を牽引する主な要因は以下の通りです。

消費者向け電子機器製品の需要増加:
消費者向け電子機器部門の拡大に伴い、スマートデバイスへの需要が増加しており、これがCMPスラリー市場の規模を押し上げています。スマートフォンやタブレットの人気が高まるにつれて、半導体への需要も増加しています。現在、半導体やマイクロチップは、あらゆる電子機器や製品の製造に不可欠です。CMPスラリーは、半導体、ウェーハ、マイクロチップ製造において重要な物質であり、小型デバイスにおける小型電気部品や高密度実装の利用が増加するにつれて、コンパクトな半導体は不可欠なものとなっています。半導体は、サーバー、家電製品、自動車、産業用電子機器など、幅広い電子デバイスで使用されており、CMP処理によってのみ達成可能な高速処理を可能にします。AI、ビッグデータ、クラウドコンピューティングの拡大は、チップメーカーに新たな成長機会をもたらし、その性能向上を可能にしています。

多様な最終用途産業における半導体チップの需要増加:
半導体の物理的および化学的特性は、マイクロチップ、トランジスタ、LED、太陽電池などの技術的進歩を可能にします。マイクロプロセッサは、宇宙船、鉄道、ロボットの機能を制御するために使用され、トランジスタやその他の半導体ベースの制御デバイスで構成されています。自動車分野では、電気自動車やハイブリッド車での広範な使用により、半導体チップの需要が近年拡大しています。半導体は、銀行ATM、鉄道、インターネット、通信、高齢者医療ネットワークなどの社会インフラの運用に不可欠です。技術の進歩も半導体需要を増加させると予想されており、信頼性、小型化、低コスト、制御された導電性といった半導体の特性は、幅広い最終用途産業の多様な部品やデバイスへの応用に優れています。CMPはICやその他の電子部品の製造に不可欠なプロセスとなっており、半導体分野でのこの技術の利用増加は、CMPスラリーの需要を高める可能性が高いです。

製品タイプ別セグメンテーション:
製品タイプ別では、酸化アルミニウム、セラミック、酸化セリウム、シリカ、その他に分類されます。2023年には酸化アルミニウムが34.9%のシェアを占め、市場をリードしました。その支配的な地位は、半導体研磨用途に理想的な研磨剤となる優れた材料特性に由来します。酸化アルミニウムの卓越した硬度、靭性、耐摩耗性は、平坦化中の制御された材料除去を可能にし、デバイスの最大性能に必要な均一性と滑らかさを維持します。その研磨特性は、半導体ウェーハの表面の欠陥や不完全性を正確に除去し、電気的および構造的特性を向上させます。

用途別セグメンテーション:
用途別では、シリコンウェーハ、光学基板、ディスクドライブ部品、その他に分類されます。2023年にはシリコンウェーハが50.3%のシェアを占め、市場をリードしました。予測期間中もその地位を維持し、6.7%の成長率で拡大すると予想されています。シリコンウェーハは、その適応性、電子デバイスでの広範な使用、ウェーハ処理における重要な役割により、CMPスラリー市場の主要な用途として際立っています。半導体デバイスの大部分はシリコンでできており、これは集積回路やその他の電子部品を製造するための基本材料です。

地域別展望:
アジア太平洋地域は、2023年に63.8%という圧倒的なシェアを占め、CMPスラリーの世界市場を支配し、約11.7億米ドルに貢献しました。この地域の半導体製造における強力な優位性、技術的進歩、熟練した労働力、電子ガジェットへの需要増加が、CMPスラリーの世界市場のトップに押し上げました。台湾のFoxconn、日本のソニー、中国のHuaweiなどの企業を擁するこの地域は、世界の電子機器製造の中心地です。消費者向け電子機器、5Gインフラ、IoTデバイスへの需要増加は、複雑な半導体への継続的な需要を生み出し、CMPスラリーの需要を押し上げています。台湾、韓国、日本、中国は、最新の半導体製造施設、研究機関、半導体技術に特化した専門家を擁しています。さらに、中国はチップ製造の自給自足を目指し、半導体インフラに多大な投資を行っています。「Made in China 2025」戦略は、ハイテク産業に焦点を当て、国内のチップ製造に対する積極的な補助金とインセンティブを含んでいます。

北米は、CMPスラリー市場で17.0%の重要なシェアを占めており、堅調な自動車産業、洗練された産業基盤、イノベーションへの注力によって牽引されています。特に米国は、Lam ResearchやApplied Materialsなどの組織がCMPツールおよび関連技術の開発を主導する半導体R&Dの中心地です。先進的なチップ製造にはCMPスラリーが不可欠であり、特に企業が7nm、5nm、3nmノードに移行する際にその重要性が増しています。北米市場における関連性を維持するため、米国企業はこれらの革新的なアプリケーション向けの次世代CMPスラリーの開発に引き続き取り組んでいます。

主要企業と競争環境:
世界のCMPスラリー市場は多数の企業が参入しており、非常に細分化されています。主要企業は、製品ポートフォリオの拡大、合併・買収などの戦略を採用しています。3M Company、Applied Materials、BASF SE、Cabot Corporation、Dow Chemicals、Evonik Industries AG、Fujifilm、Fujimi Corporation、Showa Denko Materials Co. Ltd (Resonac Corporation)、KCTech、Soulbrain Co., Ltd.、Samsung SDIなどが主要なCMPスラリーメーカーとして挙げられます。

主要な市場動向:
* 2024年1月: 富士フイルムは、半導体材料の熊本拠点として富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社(FFEM)九州を設立しました。これにより、ディスプレイ材料だけでなく半導体材料も生産し、供給の安定性を確保します。これは富士フイルムにとって日本初のCMPスラリー生産施設であり、国内顧客へのタイムリーな供給を可能にし、世界的な市場の成長に対応するため、全世界で合計4つの生産拠点を強化しました。
* 2022年7月: 昭和電工マテリアルズは、先進半導体デバイス向けに研磨性能を向上させた新しいCMPスラリーを発表しました。このスラリーは、材料除去率と表面品質を向上させる新しい研磨剤組成を特徴とし、最新の高密度半導体アプリケーションに適しています。
* 2021年3月: Cabot Corporationは、最新のエンジニアードエラストマー複合材料製品E2C DZ8650を発表しました。これは、現場での故障を減らし、稼働時間を最大化するように設計された耐久性シリーズのソリューションの一部です。

本レポートでは、これらの各企業について、企業概要、財務概要、事業戦略、製品ポートフォリオ、事業セグメント、最近の動向などのパラメータに基づいてプロファイリングされています。

CMPスラリー市場スナップショット:
* 2023年の市場規模: 18.3億米ドル
* 2034年の市場予測値: 36.8億米ドル
* 成長率(CAGR): 6.5%
* 予測期間: 2024-2034年
* 利用可能な履歴データ: 2020-2034年
* 定量的単位: 価値については10億米ドル
* 市場分析: グローバルおよび地域レベルでのクロスセグメント分析が含まれます。さらに、定性分析には、推進要因、阻害要因、機会、主要トレンド、ポーターのファイブフォース分析、バリューチェーン分析、主要トレンド分析が含まれます。
* 競争環境: 企業別市場シェア分析(2023年)、企業プロファイルセクションには、概要、製品ポートフォリオ、販売拠点、主要子会社または販売代理店、戦略と最近の動向、主要財務が含まれます。
* 形式: 電子版(PDF)+ Excel
* 市場セグメンテーション:
* 製品タイプ別: 酸化アルミニウム、セラミック、酸化セリウム、シリカ、その他
* 用途別: シリコンウェーハ、光学基板、ディスクドライブ部品、その他
* 対象地域: 北米、中南米、ヨーロッパ、アジア太平洋、中東・アフリカ
* 対象国: 米国、カナダ、ドイツ、英国、フランス、日本、中国、インド、ASEAN、GCC、南アフリカ、ブラジル
* プロファイルされた企業: 3M Company、Applied Materials、BASF SE、Cabot Corporation、Dow Chemicals、Evonik Industries AG、Fujifilm、Fujimi Corporation、Showa Denko Materials Co. Ltd (Resonac Corporation)、KCTech、Soulbrain Co., Ltd.、Samsung SDI、その他
* カスタマイズ範囲: 要請に応じて利用可能
* 価格: 要請に応じて利用可能本レポートは、世界のCMPスラリー市場に関する包括的な洞察を提供し、主要な市場動向、成長要因、課題、機会を詳細に分析します。これにより、市場参加者は戦略的な意思決定を行い、競争優位性を確立するための貴重な情報を得ることができます。また、主要企業のプロファイルと競合分析を通じて、市場のダイナミクスを深く理解することが可能です。

## よくある質問

Q: 2023年の世界のCMPスラリー市場規模はどのくらいでしたか?
A: 2023年、世界のCMPスラリー市場は18.3億米ドルと評価されました。

Q: 予測期間中、CMPスラリー業界はどの程度の成長を見込んでいますか?
A: 世界のCMPスラリー業界は、2024年から2034年にかけて年平均成長率(CAGR)6.5%で成長すると予測されています。

Q: CMPスラリー業界の需要を牽引する主要因は何ですか?
A: 様々な最終用途産業における家電製品および半導体チップの需要増加です。

Q: 2023年、CMPスラリー事業において最大のシェアを占めたセグメントはどれですか?
A: アプリケーション別では、シリコンウェハーセグメントが2023年に主要なシェアを占めました。

Q: CMPスラリーベンダーにとって、より魅力的な地域はどこですか?
A: アジア太平洋地域がベンダーにとってより魅力的な地域です。

Q: CMPスラリー分野の主要なプレーヤーは誰ですか?
A: 3M Company、Applied Materials、BASF SE、Cabot Corporation、Dow Chemicals、Evonik Industries AG、Fujifilm、Fujimi Corporation、Showa Denko Materials Co. Ltd (Resonac Corporation)、KCTech、Soulbrain Co., Ltd.、Samsung SDIがCMPスラリー市場の主要なプレーヤーです。


本市場レポートは、グローバルCMPスラリー市場に関する包括的な分析を提供しております。2020年から2034年までの期間を対象とし、市場の現状、将来予測、主要な動向、および競争環境について詳細に解説しています。

まず、「エグゼクティブサマリー」では、グローバル市場の全体像を概観いたします。市場規模(金額ベース、米ドル建て)の予測、主要な事実と数値、市場参入戦略(需要と供給の動向、潜在的な市場領域の特定、推奨される販売・マーケティング戦略、成長機会分析を含む)が提示されます。さらに、TMRによる分析と推奨事項も含まれており、読者が市場の主要なポイントを迅速に把握できるよう構成されています。

次に、「市場概要」では、市場の基盤となる要素を深く掘り下げています。ここでは、主要なトレンド分析、市場のダイナミクス(成長促進要因、阻害要因、機会)、ポーターのファイブフォース分析、SWOT分析、規制の枠組みが詳細に検討されます。また、バリューチェーン分析およびエコシステムマッピングを通じて、原材料供給業者、部品供給業者、設備供給業者、ディーラー/販売業者、ネットワークサービスプロバイダー、エンドユーザーといった各ステークホルダーの役割が明確にされます。これには、コストタイプ分析、各バリューチェーンカテゴリーにおける利益率分析、および価格分析も含まれます。技術・製品の概要、影響要因、そして製品タイプ別、用途別、地域別の市場機会評価も行われ、2020年から2034年までのグローバルCMPスラリー市場規模、分析、予測が提示されます。

続くセクションでは、グローバルCMPスラリー市場を様々な側面から詳細に分析しています。「製品タイプ別分析」では、主要なセグメントとして、酸化アルミニウム、セラミック、酸化セリウム、シリカ、その他に分類し、それぞれの市場規模(米ドル建て)の分析と2020年から2034年までの予測を提供しています。「用途別分析」では、シリコンウェハー、光学基板、ディスクドライブ部品、その他といった主要な用途セグメントごとに、市場規模(米ドル建て)の分析と2020年から2034年までの予測を詳述しています。「地域別分析と予測」では、主要な調査結果を提示し、北米、中南米、ヨーロッパ、アジア太平洋、中東・アフリカといった主要地域における市場規模(米ドル建て)の分析と2020年から2034年までの予測を行っています。

さらに、各地域に特化した詳細な分析と予測が提供されます。例えば、「北米CMPスラリー市場分析と予測」では、地域概況に加え、製品タイプ別、用途別、そして米国、カナダ、メキシコといった国別の市場規模、分析、予測(2020-2034年)が網羅されています。同様に、中南米(ブラジル、アルゼンチンなど)、ヨーロッパ(ドイツ、英国、フランス、イタリア、スペイン、オランダ、北欧諸国など)、アジア太平洋(中国、インド、日本、韓国、オーストラリア・ニュージーランド、台湾、インドネシア、マレーシア、タイ、フィリピン、ベトナムなど)、中東・アフリカ(トルコ、南アフリカ、イスラエルなど)の各市場についても、製品タイプ別、用途別、国別の詳細な分析と予測が提供され、地域ごとの特性と機会が浮き彫りにされています。

「競争環境」のセクションでは、市場における競争のタイプ、収益シェア分析、競合ダッシュボード/マトリックス分析を通じて、市場の競争構造を明らかにしています。また、主要企業のプロファイル/分析として、企業詳細、企業概要、事業ポートフォリオ、製品ポートフォリオ、戦略的概要と最近の動向、企業収益、企業財務といった包括的な情報が提供されます。「企業プロファイル」では、3M Company、Applied Materials、BASF SE、Cabot Corporation、Dow Chemicals、Evonik Industries AG、Fujifilm、Fujimi Corporation、Showa Denko Materials Co. Ltd (Resonac Corporation)、KCTech Co., Ltd.、Soulbrain Co., Ltd.、Samsung SDIといった主要な市場参加者に加え、新規参入企業や新興企業についても、上記と同様の詳細な情報が個別に掲載されており、各企業の市場における位置付けと戦略を深く理解することができます。

本レポートは、グローバルCMPスラリー市場のあらゆる側面を網羅し、市場の動向、成長機会、競争状況に関する貴重な洞察を提供する、極めて包括的な資料となっております。


表一覧

表01:世界のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、製品タイプ別、2020-2034年

表02:世界のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、用途別、2020-2034年

表03:世界のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、地域別、2020-2034年

表04:北米のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、製品タイプ別、2020-2034年

表05:北米のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、用途別、2020-2034年

表06:北米のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、国別、2020-2034年

表07:中南米のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、製品タイプ別、2020-2034年

表08:中南米のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、用途別、2020-2034年

表09:中南米のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、国別、2020-2034年

表10:欧州のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、製品タイプ別、2020-2034年

表11:欧州のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、用途別、2020-2034年

表12:欧州のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、国別、2020-2034年

表13:アジア太平洋地域のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、製品タイプ別、2020-2034年

表14:アジア太平洋地域のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、用途別、2020-2034年

表15:アジア太平洋地域のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、国別、2020-2034年

表16:中南米のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、製品タイプ別、2020-2034年

表17:中南米のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、用途別、2020-2034年

表18:中南米のCMPスラリー市場規模(10億米ドル)および予測、国別、2020-2034年


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[参考情報]
CMPスラリーは、半導体製造プロセスにおいて不可欠な化学機械研磨(CMP: Chemical Mechanical Polishing)に用いられる機能性液体です。これは、研磨対象物の表面を化学的・機械的な作用の組み合わせによって平坦化し、微細な凹凸や欠陥を除去するために使用されます。スラリーは主に、研磨粒子(砥粒)、化学剤、溶媒(通常は純水)、および各種添加剤から構成されています。砥粒が物理的な研磨作用を担い、化学剤が表面の酸化や溶解を促進することで、高精度な平坦化とダメージフリーな表面形成を実現します。

CMPスラリーの種類は、研磨対象となる材料によって多岐にわたります。例えば、層間絶縁膜の平坦化にはシリカ(SiO2)系の砥粒を用いたスラリーが、銅(Cu)配線形成にはアルミナやシリカ系の砥粒に酸化剤や錯化剤を配合したスラリーが、タングステン(W)プラグ形成にはアルミナ系の砥粒に酸化剤を配合したスラリーがそれぞれ用いられます。また、素子分離(STI)プロセスでは、高い選択性を有するセリア系のスラリーが利用されることもあります。近年では、SiCやGaNといったワイドバンドギャップ半導体向けの特殊なスラリーも開発されています。砥粒の種類も、コロイダルシリカ、フュームドシリカ、アルミナ、セリアなどがあり、研磨特性や選択性を考慮して選定されます。

CMPスラリーの主な用途は、半導体デバイスの製造プロセスにおける多層配線構造の形成、素子分離膜の平坦化、コンタクトプラグの形成など、微細化・高集積化に不可欠な工程です。具体的には、銅ダマシンプロセスにおける余剰銅の除去、層間絶縁膜の段差除去、STIにおけるシリコン窒化膜と酸化膜の選択的除去などに適用されます。半導体以外にも、MEMSデバイス、光学部品、磁気ヘッド、サファイア基板などの精密加工にも応用されています。

関連技術としては、スラリーを供給し、ウェハを研磨するCMP装置本体、スラリーと協働して研磨を行う研磨パッド、研磨後のウェハ表面からスラリー残渣や汚染物質を除去するCMP後洗浄技術が挙げられます。特にCMP後洗浄は、デバイスの信頼性や歩留まりに直結するため、非常に重要です。また、スラリーの安定性や性能を評価するための粒子径分布、ゼータ電位、pHなどの分析技術、使用済みスラリーの管理やリサイクル技術も重要な要素です。これらの技術が複合的に連携することで、高品質なCMPプロセスが実現されます。