 | • レポートコード：MRCLPR8NB10506 • 出版社/出版日：LP Information / 2026年11月 • レポート形態：英文、PDF、91ページ • 納品方法：Eメール（納期：2-3営業日） • 産業分類：Electronics & Semiconductor |
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レポート概要
【調査レポートの概要】
グローバル極端紫外線（EUV）光源技術市場規模は、2025年の3億7,300万米ドルから2032年には6億9,500万米ドルに成長すると予測されており、2026年から2032年にかけて年平均成長率（CAGR）7.1％で成長すると見込まれています。
極端紫外線（EUV）光源技術は、波長10～14ナノメートル（工業用途の主な波長は13.5ナノメートル）の高エネルギー電磁放射を生成します。フォトンエネルギーは10.25～124電子ボルトに達し、通常の媒体をイオン化しないよう真空環境での伝播が必要です。これは7ナノメートル以下の高度プロセスチップのフォトリソグラフィにおける重要な基盤技術です。業界全体の平均粗利益率は約45％～60％である一方、先進企業は技術的独占と応用シナリオの深耕により70％を超えることもあります。
【主要市場推進要因】
・高度プロセスノードの生産能力拡大がEUV光源の基礎的な需要を強化しています。
・人工知能（AI）、高性能コンピューティング、先進モバイル機器、高速通信は、より高密度のトランジスタ、低消費電力、複雑なアーキテクチャへと進化するチップの需要を牽引し、高度なロジックチップやハイエンドメモリのEUVリソグラフィ依存度を高めています。
・従来の深紫外線（DUV）マルチパターニングと比べ、EUV技術はクリティカル層に必要な露光回数、マスク、プロセスステップ数を削減し、オーバーレイ誤差の緩和と複雑パターンの製造の容易化に寄与します。
・ウェーハファウンドリが高度プロセスノードの生産能力を拡大すると、EUV装置の導入基盤、装置稼働率、クリティカル層露光需要がともに増加します。これにより、レーザー誘起プラズマ（LPP）光源、駆動レーザー、スズ滴生成器、コレクターミラー、光源制御システムなどの設置・保守・アップグレードの需要が直接的に刺激されます。
・EUV技術が技術検証から大規模製造へと移行する中で、光源は全体のシステムスループット、生産歩留まり、ウェーハ単価に影響を与える重要な要素となっています。
【高NA EUVの進化が光源性能の継続的アップグレードを促進】
高度プロセスノードの微細化が進むにつれ、従来のEUVは解像度、露光プロセスの複雑性、マルチパターニングに伴うコスト上昇という課題に直面しています。これを受けて、高数値開口（High-NA）EUVが次世代ロジックおよびメモリ製造の重要な技術方向として浮上しています。
高NAはより細かいパターンの露光を可能にし、特定のクリティカル層におけるマルチパターニング依存を軽減しますが、同時にウェーハ表面での有効光学出力、線量安定性、光学透過効率、汚染管理に対するより厳しい要求を課します。
高NA装置はR&D検証段階から量産導入段階へと進むため、光源システムは新しい感光性樹脂、反射マスク、投影光学系、検査装置、プロセス制御システムとの協調最適化が必要になります。
このシステムレベルのアップグレードは、高出力駆動レーザーの連続的な刷新、より安定したスズ滴制御、効率的な光収集、リアルタイムフィードバック制御技術を促進し、装置のレトロフィットや光源モジュールのアップグレード、それに伴う部品需要の拡大を牽引します。
【稼働率向上と供給安定化が産業チェーン投資を加速】
EUV光源は、高速スズ滴に高エネルギーレーザーを精密に照射してプラズマを生成します。変換効率、出力安定性、メンテナンス間隔、デブリ制御といった指標は、リソグラフィ装置のスループットと稼働率に直接影響を与えます。
ウェーハファブがR&D段階から連続量産段階に移行するにつれ、光源に求められる要件は単に「EUV光を生成する」ことから、長期的安定稼働、迅速な復旧、ダウンタイムの最小化、消耗品コスト削減へと進化しています。
装置メーカーとサプライチェーン企業は、光源出力、エネルギーの一貫性、コレクターミラー寿命、スズ汚染管理、予防保守機能の最適化を継続的に推進しています。
さらに、EUV技術の高度集中と部品協調の複雑性に鑑み、主要半導体製造地域では重要な光源部品、レーザーシステム、精密光学、制御モジュールの供給安定性がより重視されています。
生産能力の確保、部品在庫の維持、地域技術サービスネットワークの構築が、EUV光源技術のR&Dとサプライチェーン全体の投資をさらに加速させるでしょう。
【レポート概要】
LPI（LP Information）の最新調査レポート『極端紫外線（EUV）光源技術産業予測』は、過去の販売実績を基に2025年の世界EUV光源技術販売をレビューするとともに、2026年から2032年までの地域別および市場セクター別のEUV光源技術販売予測を包括的に分析しています。
本レポートでは、地域、マーケットセクター、サブセクターごとに極端紫外線光源技術の世界市場を米ドル単位で詳細に分析しています。
【本調査レポートの主な内容】
・グローバル極端紫外線（EUV）光源技術の全体像を分析し、製品セグメント、企業設立、収益、マーケットシェア、最新開発動向、M&A活動の主要トレンドを把握します。
・市場に参入するグローバル主要企業のEUV光源技術ポートフォリオおよび能力、参入戦略、市場位置、地域別展開に焦点を当て、加速する世界EUV光源技術市場における企業の特異性を考察します。
・主要市場トレンド、推進要因、影響因子を評価し、タイプ別、応用別、地域別、市場規模別に予測を分解することで、新興の機会領域を浮き彫りにします。
・詳細な定性的・定量的市場データに基づく透明性の高い方法論により、世界EUV光源技術の現状および将来展望について高度に精緻な見通しを提示しています。
・製品タイプ、応用分野、主要企業、主要地域・国別の市場シェアと成長機会を包括的に示します。
【市場セグメンテーション】
・タイプ別：
レーザープラズマ光源（LPP）
放電プラズマ光源（DPP）
同期放射光源（SR）
・技術別：
プリパルス技術
多層コーティング技術
デブリ制御技術
・機能カテゴリー別：
高出力
波長安定性
エネルギー効率最適化
・応用別：
半導体製造装置メーカー
チップファウンドリ
【地域別市場分析】
・アメリカ大陸
アメリカ合衆国
カナダ
メキシコ
ブラジル
・アジア太平洋（APAC）
中国
日本
韓国
東南アジア
インド
オーストラリア
・ヨーロッパ
ドイツ
フランス
英国
イタリア
ロシア
・中東・アフリカ
エジプト
南アフリカ
イスラエル
トルコ
GCC諸国
【プロファイルされた主要企業】
本レポートに掲載されている企業は、一次専門家の意見と企業の市場カバレッジ、製品ポートフォリオ、市場浸透度を分析して選定されています。
・カールツァイス（Carl Zeiss）
・サイマー（Cymer）
・ギガフォトン（Gigaphoton）
・浜松ホトニクス（Hamamatsu）
・レーザーナノファブ GmbH（Laser nanoFab GmbH）
・ASML
・トルンプ（Trumpf）
1 レポートの範囲
1.1 市場導入
1.2 対象年数
1.3 調査目的
1.4 市場調査方法論
1.5 調査プロセスとデータソース
1.6 経済指標
1.7 対象通貨
1.8 市場推定の留意点
2 エグゼクティブサマリー
2.1 世界市場概要
2.1.1 世界の極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021-2032年）
2.1.2 地域別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模の年平均成長率（2021年対2025年対2032年）
2.1.3 国/地域別極端紫外線（EUV）光源技術の現状と将来分析（2021年、2025年、2032年）
2.2 タイプ別極端紫外線（EUV）光源技術セグメント
2.2.1 レーザープラズマ光源（LPP）
2.2.2 放電プラズマ光源（DPP）
2.2.3 シンクロトロン放射光源（SR）
2.2.4 タイプ別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模
2.2.4.1 タイプ別市場規模の年平均成長率（2021年対2025年対2032年）
2.2.4.2 タイプ別世界市場規模シェア（2021-2026年）
2.3 技術別極端紫外線（EUV）光源技術セグメント
2.3.1 プリパルス技術
2.3.2 多層コーティング技術
2.3.3 デブリ制御技術
2.3.4 技術別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模
2.3.4.1 技術別市場規模の年平均成長率（2021年対2025年対2032年）
2.3.4.2 技術別世界市場規模シェア（2021-2026年）
2.4 機能カテゴリ別極端紫外線（EUV）光源技術セグメント
2.4.1 高出力
2.4.2 波長安定性
2.4.3 エネルギー効率最適化
2.4.4 機能カテゴリ別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模
2.4.4.1 機能カテゴリ別市場規模の年平均成長率（2021年対2025年対2032年）
2.4.4.2 機能カテゴリ別世界市場規模シェア（2021-2026年）
2.5 用途別極端紫外線（EUV）光源技術セグメント
2.5.1 半導体製造装置メーカー
2.5.2 チップファウンドリ
2.5.3 用途別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模
2.5.3.1 用途別市場規模の年平均成長率（2021年対2025年対2032年）
2.5.3.2 用途別世界市場規模シェア（2021-2026年）
3 プレイヤー別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模
3.1 プレイヤー別市場規模シェア
3.1.1 プレイヤー別世界極端紫外線（EUV）光源技術収益（2021-2026年）
3.1.2 プレイヤー別世界極端紫外線（EUV）光源技術収益シェア（2021-2026年）
3.2 世界主要プレイヤーの本社所在地および提供製品
3.3 市場集中度分析
3.3.1 競合環境分析
3.3.2 集中率（CR3、CR5、CR10）および（2024-2026年）
3.4 新製品および潜在的参入企業
3.5 合併・買収および拡大
4 地域別極端紫外線（EUV）光源技術
4.1 地域別市場規模（2021-2026年）
4.2 国/地域別年間収益（2021-2026年）
4.3 アメリカ地域の市場規模成長（2021-2026年）
4.4 アジア太平洋地域の市場規模成長（2021-2026年）
4.5 ヨーロッパ地域の市場規模成長（2021-2026年）
4.6 中東・アフリカ地域の市場規模成長（2021-2026年）
5 アメリカズ
5.1 アメリカズ地域別市場規模（2021-2026年）
5.2 タイプ別市場規模（2021-2026年）
5.3 用途別市場規模（2021-2026年）
5.4 アメリカ合衆国
5.5 カナダ
5.6 メキシコ
5.7 ブラジル
6 アジア太平洋（APAC）
6.1 地域別市場規模（2021-2026年）
6.2 タイプ別市場規模（2021-2026年）
6.3 用途別市場規模（2021-2026年）
6.4 中国
6.5 日本
6.6 韓国
6.7 東南アジア
6.8 インド
6.9 オーストラリア
7 ヨーロッパ
7.1 国別市場規模（2021-2026年）
7.2 タイプ別市場規模（2021-2026年）
7.3 用途別市場規模（2021-2026年）
7.4 ドイツ
7.5 フランス
7.6 イギリス
7.7 イタリア
7.8 ロシア
8 中東・アフリカ
8.1 地域別市場規模（2021-2026年）
8.2 タイプ別市場規模（2021-2026年）
8.3 用途別市場規模（2021-2026年）
8.4 エジプト
8.5 南アフリカ
8.6 イスラエル
8.7 トルコ
8.8 GCC諸国
9 市場の推進要因、課題およびトレンド
9.1 市場の推進要因および成長機会
9.2 市場の課題およびリスク
9.3 業界トレンド
10 世界極端紫外線（EUV）光源技術市場予測
10.1 地域別世界市場予測（2027-2032年）
10.1.1 地域別市場予測（2027-2032年）
10.1.2 アメリカ地域市場予測
10.1.3 アジア太平洋地域市場予測
10.1.4 ヨーロッパ地域市場予測
10.1.5 中東・アフリカ地域市場予測
10.2 アメリカズ地域国別市場予測（2027-2032年）
10.2.1 アメリカ合衆国市場予測
10.2.2 カナダ市場予測
10.2.3 メキシコ市場予測
10.2.4 ブラジル市場予測
10.3 アジア太平洋地域地域別市場予測（2027-2032年）
10.3.1 中国市場予測
10.3.2 日本市場予測
10.3.3 韓国市場予測
10.3.4 東南アジア市場予測
10.3.5 インド市場予測
10.3.6 オーストラリア市場予測
10.4 ヨーロッパ国別市場予測（2027-2032年）
10.4.1 ドイツ市場予測
10.4.2 フランス市場予測
10.4.3 イギリス市場予測
10.4.4 イタリア市場予測
10.4.5 ロシア市場予測
10.5 中東・アフリカ地域別市場予測（2027-2032年）
10.5.1 エジプト市場予測
10.5.2 南アフリカ市場予測
10.5.3 イスラエル市場予測
10.5.4 トルコ市場予測
10.6 タイプ別世界市場予測（2027-2032年）
10.7 用途別世界市場予測（2027-2032年）
10.7.1 GCC諸国市場予測
11 主要プレイヤー分析
11.1 カールツァイス
11.1.1 カールツァイス会社情報
11.1.2 カールツァイス極端紫外線（EUV）光源技術製品
11.1.3 カールツァイス極端紫外線（EUV）光源技術収益・粗利益率・市場シェア（2021-2026年）
11.1.4 カールツァイス主力事業概要
11.1.5 カールツァイス最新動向
11.2 サイマー
11.2.1 サイマー会社情報
11.2.2 サイマー極端紫外線（EUV）光源技術製品
11.2.3 サイマー極端紫外線（EUV）光源技術収益・粗利益率・市場シェア（2021-2026年）
11.2.4 サイマー主力事業概要
11.2.5 サイマー最新動向
11.3 ギガフォトン
11.3.1 ギガフォトン会社情報
11.3.2 ギガフォトン極端紫外線（EUV）光源技術製品
11.3.3 ギガフォトン極端紫外線（EUV）光源技術収益・粗利益率・市場シェア（2021-2026年）
11.3.4 ギガフォトン主力事業概要
11.3.5 ギガフォトン最新動向
11.4 浜松ホトニクス
11.4.1 浜松ホトニクス会社情報
11.4.2 浜松ホトニクス極端紫外線（EUV）光源技術製品
11.4.3 浜松ホトニクス極端紫外線（EUV）光源技術収益・粗利益率・市場シェア（2021-2026年）
11.4.4 浜松ホトニクス主力事業概要
11.4.5 浜松ホトニクス最新動向
11.5 レーザーナノファブ GmbH
11.5.1 レーザーナノファブ GmbH会社情報
11.5.2 レーザーナノファブ GmbH極端紫外線（EUV）光源技術製品
11.5.3 レーザーナノファブ GmbH極端紫外線（EUV）光源技術収益・粗利益率・市場シェア（2021-2026年）
11.5.4 レーザーナノファブ GmbH主力事業概要
11.5.5 レーザーナノファブ GmbH最新動向
11.6 ASML
11.6.1 ASML会社情報
11.6.2 ASML極端紫外線（EUV）光源技術製品
11.6.3 ASML極端紫外線（EUV）光源技術収益・粗利益率・市場シェア（2021-2026年）
11.6.4 ASML主力事業概要
11.6.5 ASML最新動向
11.7 トランプフ
11.7.1 トランプフ会社情報
11.7.2 トランプフ極端紫外線（EUV）光源技術製品
11.7.3 トランプフ極端紫外線（EUV）光源技術収益・粗利益率・市場シェア（2021-2026年）
11.7.4 トランプフ主力事業概要
11.7.5 トランプフ最新動向
12 調査結果および結論
【調査レポートの図表一覧】表一覧
表1. 地域別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模CAGR（2021年対2025年対2032年）および（金額：百万ドル）
表2. 国別/地域別極端紫外線（EUV）光源技術年間売上高CAGR（2021年、2025年、2032年）および（金額：百万ドル）
表3. レーザープラズマ光源（LPP）の主要企業
表4. 放電プラズマ光源（DPP）の主要企業
表5. 同期放射光源（SR）の主要企業
表6. タイプ別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模CAGR（2021年対2025年対2032年）および（金額：百万ドル）
表7. タイプ別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表8. タイプ別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア（2021年～2026年）
表9. プレパルス技術の主要企業
表10. 多層コーティング技術の主要企業
表11. デブリ制御技術の主要企業
表12. 技術別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模CAGR（2021年対2025年対2032年）および（金額：百万ドル）
表13. 技術別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表14. 技術別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア（2021年～2026年）
表15. 高出力の主要企業
表16. 波長安定性の主要企業
表17. エネルギー効率最適化の主要企業
表18. 機能カテゴリ別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模CAGR（2021年対2025年対2032年）および（金額：百万ドル）
表19. 機能カテゴリ別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表20. 機能カテゴリ別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア（2021年～2026年）
表21. 用途別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模CAGR（2021年対2025年対2032年）および（金額：百万ドル）
表22. 用途別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表23. 用途別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア（2021年～2026年）
表24. 企業別世界極端紫外線（EUV）光源技術売上高（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表25. 企業別世界極端紫外線（EUV）光源技術売上高市場シェア（2021年～2026年）
表26. 極端紫外線（EUV）光源技術の主要企業 本社所在地および提供製品
表27. 極端紫外線（EUV）光源技術集中度比率（CR3、CR5、CR10）（2024年～2026年）
表28. 新製品および潜在的参入企業
表29. 合併・買収および拡大
表30. 地域別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表31. 地域別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア（2021年～2026年）
表32. 国別/地域別世界極端紫外線（EUV）光源技術売上高（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表33. 国別/地域別世界極端紫外線（EUV）光源技術売上高市場シェア（2021年～2026年）
表34. 米州地域国別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表35. 米州地域国別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア（2021年～2026年）
表36. 米州地域タイプ別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表37. 米州地域タイプ別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア（2021年～2026年）
表38. 米州地域用途別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表39. 米州地域用途別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア（2021年～2026年）
表40. APAC地域地域別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表41. APAC地域地域別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア（2021年～2026年）
表42. APAC地域タイプ別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表43. APAC地域用途別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表44. 欧州国別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表45. 欧州国別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア（2021年～2026年）
表46. 欧州タイプ別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表47. 欧州用途別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表48. 中東・アフリカ地域地域別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表49. 中東・アフリカ地域タイプ別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表50. 中東・アフリカ地域用途別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
表51. 極端紫外線（EUV）光源技術の主要市場推進要因および成長機会
表52. 極端紫外線（EUV）光源技術の主要市場課題およびリスク
表53. 極端紫外線（EUV）光源技術の主要業界トレンド
表54. 地域別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模予測（2027年～2032年）および（金額：百万ドル）
表55. 地域別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア予測（2027年～2032年）
表56. タイプ別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模予測（2027年～2032年）および（金額：百万ドル）
表57. 用途別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模予測（2027年～2032年）および（金額：百万ドル）
表58. Carl Zeiss 詳細、企業タイプ、極端紫外線（EUV）光源技術サービス提供地域および競合他社
表59. Carl Zeiss 極端紫外線（EUV）光源技術提供製品
表60. Carl Zeiss 極端紫外線（EUV）光源技術売上高（百万ドル）、粗利益率および市場シェア（2021年～2026年）
表61. Carl Zeiss 主な事業内容
表62. Carl Zeiss 最新動向
表63. Cymer 詳細、企業タイプ、極端紫外線（EUV）光源技術サービス提供地域および競合他社
表64. Cymer 極端紫外線（EUV）光源技術提供製品
表65. Cymer 極端紫外線（EUV）光源技術売上高（百万ドル）、粗利益率および市場シェア（2021年～2026年）
表66. Cymer 主な事業内容
表67. Cymer 最新動向
表68. Gigaphoton 詳細、企業タイプ、極端紫外線（EUV）光源技術サービス提供地域および競合他社
表69. Gigaphoton 極端紫外線（EUV）光源技術提供製品
表70. Gigaphoton 極端紫外線（EUV）光源技術売上高（百万ドル）、粗利益率および市場シェア（2021年～2026年）
表71. Gigaphoton 主な事業内容
表72. Gigaphoton 最新動向
表73. Hamamatsu 詳細、企業タイプ、極端紫外線（EUV）光源技術サービス提供地域および競合他社
表74. Hamamatsu 極端紫外線（EUV）光源技術提供製品
表75. Hamamatsu 極端紫外線（EUV）光源技術売上高（百万ドル）、粗利益率および市場シェア（2021年～2026年）
表76. Hamamatsu 主な事業内容
表77. Hamamatsu 最新動向
表78. Laser nanoFab GmbH 詳細、企業タイプ、極端紫外線（EUV）光源技術サービス提供地域および競合他社
表79. Laser nanoFab GmbH 極端紫外線（EUV）光源技術提供製品
表80. Laser nanoFab GmbH 極端紫外線（EUV）光源技術売上高（百万ドル）、粗利益率および市場シェア（2021年～2026年）
表81. Laser nanoFab GmbH 主な事業内容
表82. Laser nanoFab GmbH 最新動向
表83. ASML 詳細、企業タイプ、極端紫外線（EUV）光源技術サービス提供地域および競合他社
表84. ASML 極端紫外線（EUV）光源技術提供製品
表85. ASML 極端紫外線（EUV）光源技術売上高（百万ドル）、粗利益率および市場シェア（2021年～2026年）
表86. ASML 主な事業内容
表87. ASML 最新動向
表88. Trumpf 詳細、企業タイプ、極端紫外線（EUV）光源技術サービス提供地域および競合他社
表89. Trumpf 極端紫外線（EUV）光源技術提供製品
表90. Trumpf 極端紫外線（EUV）光源技術売上高（百万ドル）、粗利益率および市場シェア（2021年～2026年）
表91. Trumpf 主な事業内容
表92. Trumpf 最新動向
図一覧
図1. 極端紫外線（EUV）光源技術調査報告 対象年次
図2. 調査目的
図3. 調査方法論
図4. 調査プロセスおよびデータソース
図5. 世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長率（2021年～2032年）（金額：百万ドル）
図6. 極端紫外線（EUV）光源技術 地理的地域別売上高（2021年、2025年、2032年）および（金額：百万ドル）
図7. 国別/地域別極端紫外線（EUV）光源技術売上高市場シェア（2025年）
図8. 国別/地域別極端紫外線（EUV）光源技術売上高市場シェア（2021年、2025年、2032年）
図9. 2025年タイプ別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア
図10. 2025年技術別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア
図11. 2025年機能カテゴリ別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア
図12. 半導体製造装置メーカーにおける極端紫外線（EUV）光源技術
図13. 世界極端紫外線（EUV）光源技術市場：半導体製造装置メーカー別（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
図14. チップファウンドリにおける極端紫外線（EUV）光源技術
図15. 世界極端紫外線（EUV）光源技術市場：チップファウンドリ別（2021年～2026年）および（金額：百万ドル）
図16. 2025年用途別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア
図17. 2025年企業別世界極端紫外線（EUV）光源技術売上高市場シェア
図18. 2021年～2026年地域別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア
図19. 米州地域極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）（百万ドル）
図20. APAC地域極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）（百万ドル）
図21. 欧州極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）（百万ドル）
図22. 中東・アフリカ極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2021年～2026年）（百万ドル）
図23. 2025年米州地域国別極端紫外線（EUV）光源技術価値市場シェア
図24. 米国極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図25. カナダ極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図26. メキシコ極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図27. ブラジル極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図28. 2025年APAC地域地域別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア
図29. 2021年～2026年APAC地域タイプ別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア
図30. 2021年～2026年APAC地域用途別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア
図31. 中国極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図32. 日本極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図33. 韓国極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図34. 東南アジア極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図35. インド極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図36. オーストラリア極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図37. 2025年欧州国別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア
図38. 2021年～2026年欧州タイプ別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア
図39. 2021年～2026年欧州用途別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア
図40. ドイツ極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図41. フランス極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図42. 英国極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図43. イタリア極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図44. ロシア極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図45. 2021年～2026年中東・アフリカ地域極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア
図46. 2021年～2026年中東・アフリカ地域タイプ別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア
図47. 2021年～2026年中東・アフリカ地域用途別極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア
図48. エジプト極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図49. 南アフリカ極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図50. イスラエル極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図51. トルコ極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図52. GCC諸国極端紫外線（EUV）光源技術市場規模成長（2021年～2026年）（百万ドル）
図53. 米州極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図54. APAC極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図55. 欧州極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図56. 中東・アフリカ極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図57. 米国極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図58. カナダ極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図59. メキシコ極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図60. ブラジル極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図61. 中国極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図62. 日本極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図63. 韓国極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図64. 東南アジア極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図65. インド極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図66. オーストラリア極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図67. ドイツ極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図68. フランス極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図69. 英国極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図70. イタリア極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図71. ロシア極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図72. エジプト極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図73. 南アフリカ極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図74. イスラエル極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図75. トルコ極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
図76. タイプ別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア予測（2027年～2032年）
図77. 用途別世界極端紫外線（EUV）光源技術市場規模シェア予測（2027年～2032年）
図78. GCC諸国極端紫外線（EUV）光源技術市場規模（2027年～2032年）（百万ドル）
| ※極端紫外線（EUV）光源技術は、主に半導体製造プロセスにおいて使用される光源技術であり、極端紫外線の波長範囲（おおよそ10〜14ナノメートル）を利用しています。この波長帯は、既存の紫外線光源よりも短いため、より高い解像度で微細なパターンを描くことが可能です。EUV技術は、主に半導体のリソグラフィー工程で、新しい世代のマイクロチップを製造するために不可欠な要素となっています。 EUV光源技術には、主に二つの種類があります。一つは、プラズマ光源を利用したもので、二つの金属（通常は錫）を高エネルギーで衝突させ、プラズマ状態を生成します。このプラズマから放出されるEUV光を集光レンズを使って集約させ、ワークステーションに照射します。もう一つは、レーザーを用いた光源で、こちらも同様に金属を加熱してプラズマを作り、EUV光を生成します。この技術も効率的ですが、プラズマ光源に比べて人気はやや劣ります。 EUV光源技術は、特に半導体産業における用途が広く、次世代のプロセッサやメモリチップの製造に不可欠です。多層のフォトマスクを使用し、EUV光を照射することで、非常に微細な回路パターンを基板に転写します。これにより、トランジスタのサイズを縮小し、集積度を高めることができます。さらに、EUVを用いることで、従来の光源では達成が難しい微細なパターンを描くことができ、より高性能なデバイスの製造が可能となり、最先端の半導体技術を支える要素となっています。 EUV光源技術は、他の関連技術とも密接に関連しています。リソグラフィー工程では、フォトレジストと呼ばれる感光材料が用いられ、その特性はEUV光に最適化されています。また、EUV技術の発展には、超伝導材料や光学コーティング技術、素材開発が大きく寄与しています。これらの関連技術が組み合わさることで、高効率かつ高解像度のリソグラフィーが実現するのです。 なお、EUV光源技術を導入するには多くの課題が存在します。例えば、EUV光源の出力が限られているため、製造ラインの生産性を確保するためには、多くの光源を使用する必要があります。また、EUV光は大気中では容易に吸収されてしまうため、真空環境での操作が求められ、これに伴う設備のコストやメンテナンスが重要な問題となっています。 今後の展望として、EUV光源技術の進展は、より小型化・高集積化が進む半導体製造プロセスに対する期待が寄せられています。より高い出力を持つ光源の開発や、より高感度なフォトレジストの発展が求められており、これらの技術革新が実現すれば、さらに高性能なデバイスの大量生産が可能になるでしょう。 このように、極端紫外線光源技術は、半導体製造の核心をなすものであり、今後も技術の進化が進んでいくことが期待されています。それに伴い、関連する技術や材料の研究開発も進むことで、半導体業界全体の成長を促進する重要な要素と位置付けられています。EUV技術の進展は、光通信、AI、IoTなど、さまざまな分野での技術革新にも寄与するでしょう。 |
• 日本語訳：極端紫外線（EUV）光源技術のグローバル市場予測2026-2032（タイプ別：レーザープラズマ光源（LPP）、放電プラズマ光源（DPP）、シンクロナイザー放射光源（SR）)
• レポートコード：MRCLPR8NB10506 ▷ お問い合わせ（見積依頼・ご注文・質問）